一、產品特性:
1、可在同一儀器上實現多種測量功能,真正意義上的萬能摩擦磨損測試;
2、符合ASTM3702,ASTM G99與ASTM G133等國際標準;
3、用于進行實時監測摩擦系數曲線;
4、有旋轉,線性往復,環-塊,環-環四種工作模式;
5、采用位置譯碼器與速度譯碼器可準確控制馬達控制速度與位置;
6、可測量靜摩擦系數及Stribeck曲線;
7、*大載荷:100N;
8、轉度:0.01-5000rpm,15000rpm可選;
9、密封式裝置,可以控制環境,如:氣體、濕度、潤滑等;
10、高溫模式選件,*高可測1100℃環境下的摩擦磨損;
11、實時接觸電阻測量選件可提供接觸電阻測試
12、表面形貌測試模塊選件用于測量磨損率,磨損前后二維表面形貌、磨損面積、磨損率、磨損深度、平整度、線粗糙度參數(Ra,Rp,Rv,Rz,Rc,Rt,Rq,Rsk,Rku,)等表面參數
13、原位電化學工作站選件,搭配普林斯頓的電化學工作站進行摩擦腐蝕方向的研究。
14、真空模塊選件,可實現真空環境下的摩擦磨損測試。
15、低溫模塊選件,可實現低溫-150℃下的摩擦磨損測試.
二、產品應用
半導體技術:
·鈍化層
·金屬涂敷
·焊墊
醫療:
·藥片
·植入物
·生物組織
光學元件:
·棱鏡
·光纖
·光學元件涂層
·高容量光存儲:
·磁盤涂層
·CD涂層
·薄膜
耐磨材料涂層:
·TiN,
TiC, DLC
·切削工具
工程:
·橡膠
·觸摸屏
·涂層
微電子器件系統
裝潢金屬涂層
汽車:
·噴漆涂層
·玻璃印刷層
·汽車精加工部件
三、技術參數
主機參數:
參數 |
旋轉模式 |
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載荷范圍 |
50mN-100N |
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載荷分辨率 |
6μN |
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旋轉速度 |
0.01-5000rpm/0.05-15000rpm |
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*大扭矩 |
4.4Nm |
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*大摩擦力 |
+/-100N |
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摩擦力分辨率(理論) |
6μN |
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X軸自動控制范圍 |
50mm |
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X軸半徑分辨率 |
2.5μm |
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儀器尺寸 |
65cm×52cm×65cm |
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重量 |
約70Kg |
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盤尺寸 |
100mm |
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接觸探頭 |
可選針型、球形與銷型 |
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線性往復模式 |
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*大振幅 |
25mm |
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*大掃描頻率 |
60Hz@5mm沖程 |
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潤滑控制系統(可選) |
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液體消耗率 |
60-90cm3/hour |
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液體容量 |
120ml |
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液體容器 |
包含 |
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高溫測量系統(可選) |
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箱體溫度(旋轉模式) |
1100℃ |
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加熱片(線掃描模式) |
800℃ |
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液體加熱模式 |
150 ℃ |
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分辨率 |
1℃ |
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低溫模塊(可選) |
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-40℃/-150℃ |
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深度傳感器(可選) |
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*大位移量 |
2000μm |
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分辨率 |
0.1nm |
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接觸電阻(可選) |
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*大阻抗 |
0-1000 Ohms |
表面形貌儀模塊技術參數:
NANOVEA公司提供兩種光學測量探頭可供用戶選擇:
EP110(用于磨損較淺的情況)光學測量探頭的技術參數如下:
1) Z方向測量范圍:100μm
2) Z方向測量分辨率:20nm
3) Z方向測量精度:50nm
4)橫向光學分辨率:3μm
5)光斑直徑:6μm
6)工作距離:1mm
EP1500(用于磨損較深的情況)光學測量探頭的技術參數如下:
1) Z方向測量范圍:1.5mm
2) Z方向測量分辨率:200nm
3) Z方向測量精度:300nm
4)橫向光學分辨率:3.5μm
5)光斑直徑:7μm
6)工作距離:2.3mm
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